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锗圆片

锗圆片是标准圆形单晶锗红外窗口,中远红外透光稳定、工艺成熟,可镀红外增透及 DLC 防护膜,通用性强,广泛用于红外测温、热成像、红外激光、气体传感等主流红外光学设备。

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分类:

关键词

精密光学、晶体加工、红外光学、锗抛光片、硅抛光片

  • 产品描述
  • 材质与工艺

    采用高纯单晶锗晶棒切割制坯,经粗磨、精磨、双面光学抛光,管控直径、厚度、平行度、平面度,表面疵病等级可选,外圆光滑,边缘倒角防崩边。圆片是锗光学最标准形态,工艺成熟、良率高,支持大批量量产,尺寸覆盖小直径探测窗口到大口径红外镜头窗口。可按需镀单波段 / 宽带红外增透膜、DLC 金刚石保护膜,未镀膜裸片也可提供,每片采用斐索干涉仪检测面形,红外光谱仪检测透过率,批次稳定性强,适配标准圆形镜座。

    光学功能

    锗圆片在 2–14μm 中远红外波段透过良好,折射率高、色散低,阻挡可见光干扰,降低红外系统噪声。作为标准平面保护窗口,保护内部红外探测器、红外透镜,镀膜后大幅降低表面反射损耗,提升系统红外响应。DLC 膜具备高硬度、防潮、耐盐雾优势,适合户外、工业恶劣环境,光束垂直入射时波前畸变小,散射低,是红外光路最通用的基础透光元件。

    应用场景

    应用覆盖红外测温枪、红外热像仪、CO₂激光窗口、红外气体传感器、红外镜头前置保护窗口,是红外行业用量最大的锗光学元件。工业测温、电力巡检、车载红外、安防夜视、红外光谱仪器都大量使用,适配标准化光学组件,可搭配红外滤光片、透镜组成整套光路,兼顾成本与光学性能,适合大规模量产设备配套。

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常见问题

公司主要能加工哪些材料?

我们专注于高精度平面抛光,加工材料覆盖了可见光及红外波段两大类:
①可见光/激光光学材料:光学玻璃(如K9、BK7)、石英玻璃(包括JGS1/JGS2/JGS3)、康宁系列(如7980、7979)、ZF系列重火石玻璃等。
②红外光学材料:单晶锗(Ge)、单晶硅(Si)。这两种材料硬度高(Si努氏硬度约1150,Ge约780)且质地较脆,是我们的核心工艺强项。

平面抛光能达到什么精度?

我们专注于高精度平面加工,常规批量生产技术指标如下:
① 面型精度:PV值(峰谷值)可达 λ/20 甚至更高(λ=632.8nm),具体视材料和工艺而定。
②表面光洁度:可达 10/5 甚至更高,无麻点、划痕等外观瑕疵。
③平行度:可根据客户图纸要求控制在秒级(角度)或微米级厚度差内。

红外材料(锗、硅)为什么加工成本比玻璃高?

这主要由于材料物理特性决定的:
①硬度高且脆:锗和硅的努氏硬度远高于普通光学玻璃,意味着抛光磨削时间更长,砂轮/磨料损耗更大。
②易崩边破损:红外材料高硬度、高脆性,在加工过程中容易产生应力崩边,导致报废风险增加。
③材料单价昂贵:红外材料每克成本远高于普通玻璃,且加工中需要特殊的冷却液和防污染措施。

为什么抛出来的镜片表面会有“砂眼”或“麻点”?

“砂眼”通常源于前道工序(粗磨或精磨)留下的破坏层未被完全去除。原因可能包括:
① 上一道工序砂粒过粗,损伤层过深。
②抛光时间不足或抛光粉粒度选择不当。
我们严格管控每一道工序的磨削量,确保精磨能完全消除上一道的划痕,抛光余量充足。

光学冷加工通常包含哪些工序?

针对平面抛光元件,标准流程包括:
铣磨(成型)→ 精磨(修正R值/平面度)→ 抛光(达到光洁度和面型)→ 清洗(防止抛光粉固化)→ 检验

什么是双面抛光?单面抛光有什么难点?

①双面抛光:同时加工工件的上下两个面,能有效消除单面加工带来的应力变形,特别适合薄片、窗口片的高平行度加工。
②单面抛光:只抛一面。难点在于容易产生“塌边”或因应力导致面型失真。我们通过特殊的夹具设计和压力控制来解决应力变形问题。

如何检测面型精度和表面质量?

我们拥有完备的检测手段:
①面型干涉仪:用于检测平面度(PV值、RMS值)。
②表面缺陷检测:在标准光源下比对标准样板,检查划痕、麻点(美军标MIL或国标GB)。
③厚度/平行度测量:使用千分表或激光测厚仪监控厚度一致性。

如何在抛光后保持镜片干净?

抛光后若抛光粉固化在表面会很难清洗。我们的工序中:
①即时清洗:抛光下盘后立即使用超声波清洗线进行清洗。
②防污染隔离:严格区分粗磨、精磨与抛光区域的工装夹具,防止不同粒径的磨料交叉污染导致划痕。

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锗圆片

锗圆片是标准圆形单晶锗红外窗口,中远红外透光稳定、工艺成熟,可镀红外增透及 DLC 防护膜,通用性强,广泛用于红外测温、热成像、红外激光、气体传感等主流红外光学设备。

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