TiO
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分类：
关键词
精密光学、晶体加工、红外光学、锗抛光片、硅抛光片
- 产品描述
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材质与工艺
TiO 为金棕色一氧化钛颗粒，纯度 4N，由钛与氧化钛高温固相合成，精准控制氧钛比，化学计量稳定，颗粒致密，减少蒸发喷溅。真空密封保存，防止氧化变质，适配电子束蒸发、热蒸发。TiO 属于非化学计量钛氧化物，蒸发工艺对氧分压敏感，可通过工艺调控薄膜吸收与折射率，适合需要可调吸收、半透膜的特殊光学方案。
光学功能
TiO 薄膜折射率约 2.2~2.3，具备一定可调吸收特性，不同于 TiO₂的全透明介质膜，可制备半透半反膜、吸收膜、金属膜过渡层，膜层附着力强，硬度高。在可见光、近红外波段可做中性吸收膜、分光膜，也可作为金属反射膜的粘接层，提升金属膜与基底结合力，适合中性密度、半透光学需求。
应用场景
多用于中性密度滤光片、半透半反镜、装饰镀膜、金属膜底层粘接层，也用于部分红外吸收薄膜。在摄影光学、调光光学、装饰彩膜、激光取样分光膜中使用，适合需要可控吸收的特殊膜系，是兼顾介质与半吸收特性的特种钛系蒸发料，多用于定制化、特种光学薄膜开发。
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常见问题
公司主要能加工哪些材料？
我们专注于高精度平面抛光，加工材料覆盖了可见光及红外波段两大类：
①可见光/激光光学材料：光学玻璃（如K9、BK7）、石英玻璃（包括JGS1/JGS2/JGS3）、康宁系列（如7980、7979）、ZF系列重火石玻璃等。
②红外光学材料：单晶锗（Ge）、单晶硅（Si）。这两种材料硬度高（Si努氏硬度约1150，Ge约780）且质地较脆，是我们的核心工艺强项。
平面抛光能达到什么精度？
我们专注于高精度平面加工，常规批量生产技术指标如下：
① 面型精度：PV值（峰谷值）可达 λ/20 甚至更高（λ=632.8nm），具体视材料和工艺而定。
②表面光洁度：可达 10/5 甚至更高，无麻点、划痕等外观瑕疵。
③平行度：可根据客户图纸要求控制在秒级（角度）或微米级厚度差内。
红外材料（锗、硅）为什么加工成本比玻璃高？
这主要由于材料物理特性决定的：
①硬度高且脆：锗和硅的努氏硬度远高于普通光学玻璃，意味着抛光磨削时间更长，砂轮/磨料损耗更大。
②易崩边破损：红外材料高硬度、高脆性，在加工过程中容易产生应力崩边，导致报废风险增加。
③材料单价昂贵：红外材料每克成本远高于普通玻璃，且加工中需要特殊的冷却液和防污染措施。
为什么抛出来的镜片表面会有“砂眼”或“麻点”？
“砂眼”通常源于前道工序（粗磨或精磨）留下的破坏层未被完全去除。原因可能包括：
① 上一道工序砂粒过粗，损伤层过深。
②抛光时间不足或抛光粉粒度选择不当。
我们严格管控每一道工序的磨削量，确保精磨能完全消除上一道的划痕，抛光余量充足。
光学冷加工通常包含哪些工序？
针对平面抛光元件，标准流程包括：
铣磨（成型）→ 精磨（修正R值/平面度）→ 抛光（达到光洁度和面型）→ 清洗（防止抛光粉固化）→ 检验
什么是双面抛光？单面抛光有什么难点？
①双面抛光：同时加工工件的上下两个面，能有效消除单面加工带来的应力变形，特别适合薄片、窗口片的高平行度加工。
②单面抛光：只抛一面。难点在于容易产生“塌边”或因应力导致面型失真。我们通过特殊的夹具设计和压力控制来解决应力变形问题。
如何检测面型精度和表面质量？
我们拥有完备的检测手段：
①面型干涉仪：用于检测平面度（PV值、RMS值）。
②表面缺陷检测：在标准光源下比对标准样板，检查划痕、麻点（美军标MIL或国标GB）。
③厚度/平行度测量：使用千分表或激光测厚仪监控厚度一致性。
如何在抛光后保持镜片干净？
抛光后若抛光粉固化在表面会很难清洗。我们的工序中：
①即时清洗：抛光下盘后立即使用超声波清洗线进行清洗。
②防污染隔离：严格区分粗磨、精磨与抛光区域的工装夹具，防止不同粒径的磨料交叉污染导致划痕。
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