SiO（块料）
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分类：
关键词
精密光学、晶体加工、红外光学、锗抛光片、硅抛光片
- 产品描述
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材质与工艺
一氧化硅为黑色玻璃态块料，纯度多为 4N，由硅与二氧化硅高温固相反应制备，严控化学计量比，避免成分偏析。块料致密、孔隙少，热蒸发、电子束蒸发时不易喷溅，出气量低，适合电阻蒸发源与电子枪。加工时控制块体尺寸适配坩埚，真空密封保存，避免在空气中氧化歧化。蒸发工艺成熟，成膜附着力强，是红外、装饰镀膜经典介质材料。
光学功能
SiO 薄膜折射率约 1.85~1.9，透光覆盖可见光至中红外，膜层兼具介质特性与一定吸收可调性，膜层致密、防潮耐磨，附着力优异。既可作为红外光学增透膜、保护膜，也可做半透膜、装饰彩膜，同时可作为金属膜与基底之间的过渡粘接层，提升金属膜附着力。其膜层应力适中，适合塑料、玻璃多种基底，红外波段使用优势突出。
应用场景
主要用于红外窗口、红外镜头的增透与保护镀膜，装饰镀膜、分光膜、半透膜，也用作铝、金等金属反射膜的底层过渡粘接层。在红外热成像、红外传感、装饰镀膜、眼镜冷光膜领域大量使用，适合电阻蒸发量产线，是性价比突出的红外介质材料，也用于部分半导体钝化、防潮阻挡薄膜。
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常见问题
公司主要能加工哪些材料？
我们专注于高精度平面抛光，加工材料覆盖了可见光及红外波段两大类：
①可见光/激光光学材料：光学玻璃（如K9、BK7）、石英玻璃（包括JGS1/JGS2/JGS3）、康宁系列（如7980、7979）、ZF系列重火石玻璃等。
②红外光学材料：单晶锗（Ge）、单晶硅（Si）。这两种材料硬度高（Si努氏硬度约1150，Ge约780）且质地较脆，是我们的核心工艺强项。
平面抛光能达到什么精度？
我们专注于高精度平面加工，常规批量生产技术指标如下：
① 面型精度：PV值（峰谷值）可达 λ/20 甚至更高（λ=632.8nm），具体视材料和工艺而定。
②表面光洁度：可达 10/5 甚至更高，无麻点、划痕等外观瑕疵。
③平行度：可根据客户图纸要求控制在秒级（角度）或微米级厚度差内。
红外材料（锗、硅）为什么加工成本比玻璃高？
这主要由于材料物理特性决定的：
①硬度高且脆：锗和硅的努氏硬度远高于普通光学玻璃，意味着抛光磨削时间更长，砂轮/磨料损耗更大。
②易崩边破损：红外材料高硬度、高脆性，在加工过程中容易产生应力崩边，导致报废风险增加。
③材料单价昂贵：红外材料每克成本远高于普通玻璃，且加工中需要特殊的冷却液和防污染措施。
为什么抛出来的镜片表面会有“砂眼”或“麻点”？
“砂眼”通常源于前道工序（粗磨或精磨）留下的破坏层未被完全去除。原因可能包括：
① 上一道工序砂粒过粗，损伤层过深。
②抛光时间不足或抛光粉粒度选择不当。
我们严格管控每一道工序的磨削量，确保精磨能完全消除上一道的划痕，抛光余量充足。
光学冷加工通常包含哪些工序？
针对平面抛光元件，标准流程包括：
铣磨（成型）→ 精磨（修正R值/平面度）→ 抛光（达到光洁度和面型）→ 清洗（防止抛光粉固化）→ 检验
什么是双面抛光？单面抛光有什么难点？
①双面抛光：同时加工工件的上下两个面，能有效消除单面加工带来的应力变形，特别适合薄片、窗口片的高平行度加工。
②单面抛光：只抛一面。难点在于容易产生“塌边”或因应力导致面型失真。我们通过特殊的夹具设计和压力控制来解决应力变形问题。
如何检测面型精度和表面质量？
我们拥有完备的检测手段：
①面型干涉仪：用于检测平面度（PV值、RMS值）。
②表面缺陷检测：在标准光源下比对标准样板，检查划痕、麻点（美军标MIL或国标GB）。
③厚度/平行度测量：使用千分表或激光测厚仪监控厚度一致性。
如何在抛光后保持镜片干净？
抛光后若抛光粉固化在表面会很难清洗。我们的工序中：
①即时清洗：抛光下盘后立即使用超声波清洗线进行清洗。
②防污染隔离：严格区分粗磨、精磨与抛光区域的工装夹具，防止不同粒径的磨料交叉污染导致划痕。
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精密光学、晶体加工、红外光学、锗抛光片、硅抛光片
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