平面抛光能达到什么精度？
2026-08-25
我们专注于高精度平面加工，常规批量生产技术指标如下：
① 面型精度：PV值（峰谷值）可达 λ/20 甚至更高（λ=632.8nm），具体视材料和工艺而定。
②表面光洁度：可达 10/5 甚至更高，无麻点、划痕等外观瑕疵。
③平行度：可根据客户图纸要求控制在秒级（角度）或微米级厚度差内。
我们专注于高精度平面加工，常规批量生产技术指标如下：
① 面型精度：PV值（峰谷值）可达 λ/20 甚至更高（λ=632.8nm），具体视材料和工艺而定。
②表面光洁度：可达 10/5 甚至更高，无麻点、划痕等外观瑕疵。
③平行度：可根据客户图纸要求控制在秒级（角度）或微米级厚度差内。
关键词：
精密光学、晶体加工、红外光学、锗抛光片、硅抛光片
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晶态多孔材料的孔道结构直接影响其在碳捕集、气体吸附与分离、催化反应及离子传输等领域的应用性能。客体分子需要在孔道中完成扩散、吸附与传输等过程，因此，孔径大小、孔道形貌及不同孔道之间的协同作用均对材料性能具有重要影响。然而，传统晶态多孔材料的孔道调控策略通常使不同孔道同步放大或缩小，难以实现各级孔道结构与尺寸的独立调节。如何突破这一局限，实现孔道的独立、精准调控，仍是晶态多孔材料领域面临的重要科学挑战。
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